環境場發射掃描電鏡產品介紹
環境場發射掃描電鏡Quattro ESEM 產品介紹：
Quattro ESEM環境掃描電鏡支持可選的環境真空加熱臺、高真空加熱臺、Thermo Scientific AutoScript 4 軟件（基于 Python 的腳本工具）以及新款 RGB 陰極發光 (CL) 檢測器。
RGB CL 檢測器可生成彩色圖像，重點顯示傳統電子或 X 射線成像技術中無法看到的樣品特性。
環境真空加熱臺適用于易放氣樣品或一定氣氛下的樣品加熱試驗，高真空加熱臺可以在高真空模式下對樣品進行加熱觀察，且沒有多余氣氛的干擾。
借助 AutoScript 4 軟件，用戶可對各種成像參數和載物臺移動進行編程，可實現Quattro在無人操作的情況下進行數據采集。
Quattro ESEM環境場發射掃描電鏡應用：
納米表征：
金屬和合金、斷裂、焊縫、拋光切片、磁性和超導電材料
陶瓷、復合材料、塑料
薄膜/涂層
地質切片、礦物
軟材料：聚合物、藥品、濾片、凝膠、組織、植物材料
顆粒、多孔材料、纖維
原位表征：
結晶/相變
氧化/催化
材料生長
水合/脫水/潤濕/接觸角分析
拉伸（帶加熱或冷卻）
環境場發射掃描電鏡Quattro ESEM主要特點
動態原位實驗：
Quattro ESEM環境掃描電鏡的多功能性使其非常適用于材料科學領域的大部分主題。它對傳統的高分辨率 SEM 成像/分析以及動態原位實驗都非常擅長。它可以幫助研究人員研究自然狀態下的各種樣品，以獲得關于結構和組分的最準確的信息。
極大限度地減少樣品制備時間
低真空和ESEM環境掃描電鏡功能可對非導電和/或含水樣品進行無電荷/無脫水成像和分析。
樣品觀察
在各種操作模式下均可實現 SE 和 BSE 同時成像。
優異的分析能力
優異的分析能力來自可以最多同時使用 3 個 EDS 檢測器的腔室，并具有對稱180°的 EDS 接口、WDS接口以及和EDS幾何共面的EBSD接口。對非導電樣品的出色分析：在低真空條件下，Quattro ESEM高溫掃描電鏡的減小電子束散射技術可實現準確的 EDS 和 EBSD。
靈活且精確
靈活且精確的優中心樣品臺，傾斜范圍達 105°，可從各個角度觀察樣品。
易于使用的軟件及創新性選項
直觀易用且帶有用戶指南和撤消功能的軟件。使用更少的鼠標點擊，更快速地完成工作。新的創新選項，包括可伸縮 RGB 陰極發光 (CL) 檢測器、1100°C 高真空加熱載物臺和 AutoScript 4 軟件（基于 Python 的API腳本工具）。
環境場發射掃描電鏡技術參數
環境場發射掃描電鏡 Quattro ESEM產品規格：
分辨率
高真空模式
0.8nm@30kV（STEM）
1.0nm@30kV（SE）
3.0nm@1kV（SE）
低真空和環掃模式
1.3nm@30kV（SE）
標準檢測器
ETD、低真空 SED (LVD)、 ESEM SED (GSED)、紅外CCD
可選檢測器
Nav-Cam+、DBS、DBS-GAD、ESEM-GAD、ICD、STEM 3+、WetSTEM、RGB-CLD、EDS、EBSD、WDS、拉曼、EBIC 等
ChemiSEM 技術（可選）
可基于能量色散 X 射線光譜 (EDS) 進行實時定量 元素面分布。包含點分析、線掃描、面分布及元素定量。
樣品臺減速（可選）
-4000 V 至 +50 V
低真空模式
高達 2600 Pa (H2O) 或 4000 Pa (N2)
樣品臺
5軸馬達優中心樣品臺，110 x 110 mm2，105° 傾斜范圍。最大樣品重量：未傾斜位置，5 kg。
標準樣品支架
標準多樣品 SEM 支架可單獨直接安裝在載物臺上，可容納多達 18 個標準樣品托 (? 12 mm)，無需工具即可安裝樣品
樣品倉
340 mm 內寬，12 個接口，最多可接三個 EDS 檢測器（兩個呈 180°對稱），并具有與共面 EDS共面的EBSD接口。
原位配件（可選）
軟件控制的 -20°C 至 +60°C Peltier 冷臺
軟件控制的 1,000°C 低真空/ESEM 熱臺
軟件控制的 1,100°C 高真空熱臺
軟件控制的 1,400°C 低真空/ESEM 熱臺
集成氣體注入系統：用于下列材料的電子束誘導沉積，最多支持2種氣體（其他配件可能限制可用的注氣系統 (GIS) 數量）：
鉑、鎢、 碳
納米機械手、液氮致冷臺、電子探針/多探針臺
軟件選項
Thermo Scientific Maps 軟件可進行大面積圖像自動采集和拼接，并可與其它設備聯用
Thermo Scientific AutoScript 4 軟件；基于 Python 的應用程序編程界面
圖形發生軟件
TopoMaps 軟件用于圖像著色及分析和 3D 表面重建
